TraceMetal级溶剂
·优质的高纯产品，源于金属及杂质含量极低。
·65种金属杂质通过ICP-MS测定，金属杂质含量低至0.1-1.0ppb。
·限度从10ppb-100ppb，适合ICP-OES 。
·在class 10洁净条件下包装，保证产品不受杂质污染。
·可以用于ICP-OES痕量分析及半导体器件的清洗和刻蚀。
| 货号 | 中文名称 | 英文名称 | 规格 | 包装 |
| A509-P212C | 硝酸 | Nitric Acid | 2.5L | 4瓶/箱 |
| 033323C | 过氧化氢 | Hydrogen Peroxide | 500ml | 8瓶/箱 |
| A505-500 | 氨水 | Ammonium hydroxide | 500ml | 6瓶/箱 |
| H505-500 | 氢氟酸 | Hydrofluoric Acid | 500ml | 6瓶/箱 |
| H508-500 | 盐酸 | Hydrochloric Acid 34-37%, Trace Metal | 500ml | 6瓶/箱 |
| S508-500 | 硫酸 | Sulfuric Acid 93-98%, Trace Metal | 500ml | 6瓶/箱 |
| P508-500 | 高氯酸 | Perchloric Acid 65-71%, Trace Metal | 500ml | 6瓶/箱 |
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